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屏蔽机房
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机房屏蔽材料的效果可能会受到多种因素的影响。
影响屏蔽材料效果的因素有:
(1)频率较高时,吸收损耗是主要的屏蔽机理,这时与辐射源是电场辐射源还是磁场辐射源关系不大。
(2)频率较低的时候,吸收损耗很小,反射损耗是屏蔽效能的主要机理,要尽量提高反射损耗。
(3)电场波是最容易屏蔽的,平面波其次,磁场波是最难屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低频磁场,很难屏蔽。对于低频磁场,要采用高导磁性材料屏蔽,几种情况影响屏蔽材料的效果甚至采用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。
(4)材料的导电性和导磁性越好,屏蔽效能越高,但实际的金属材料不可能兼顾这两个方面,例如铜的导电性很好,但是导磁性很差;铁的导磁性很好,但是导电性较差。应该使用什么材料,根据具体屏蔽主要依赖反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性;
(5)反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关,对于电场辐射源,距离越近,则反射损耗越大,对于磁场辐射源,距离越近,则反射损耗越小,正确判断辐射源的性质,决定它应该靠近屏蔽体,还是原理屏蔽体,是结构设计的一个重要内容。
(6)反射损耗与辐射源的特性有关,对于电场辐射源,反射损耗很大;对于磁场辐射源,反射损耗很小。因此,对于磁场辐射源的屏蔽主要依靠材料的吸收损耗,应该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。
以上哪些因素会影响屏蔽材料的效果,屏蔽材料在同距离、不同频率、不同场源的屏蔽效果也是不同的,而不同类型的金属材料也会带来不同的屏蔽效果。
屏蔽机房主要由三部分组成:屏蔽壳体、电源和信号接口、吸波材料。
屏蔽壳体是屏蔽机房的主要组成部分,一般采用厚钢板焊接而成,具有良好的密封性和屏蔽效果。为保证屏蔽机房的安全性和稳定性,壳体还需进行特殊处理,如静电喷塑、包边等。
电源和信号接口是保证屏蔽机房内设备正常运转的关键部分。为防止电磁波通过电源和信号线进入屏蔽机房,影响设备的正常运行,需要对这些线路进行滤波处理或使用同轴电缆等具有较好屏蔽效果的线材。同时,在电源和信号接口处也需要设置相应的滤波器和接口转换器等设备。
吸波材料是用来吸收和减弱电磁波的特殊材料。在屏蔽机房中,吸波材料主要铺设在墙壁、天花板和地板上,用于吸收和减弱室内空间的电磁波。此外,吸波材料还可用于各种电子设备的机壳表面,以增强设备的整体屏蔽效果。
具体实施方面,首先需要选择合适的场地进行屏蔽机房的建设。一般选择远离强电磁场的环境,以减少外界电磁波对屏蔽机房的影响。在建设过程中,需要根据实际需要选择合适的材料和规格,并严格按照施工要求进行安装和调试。最后,还需对屏蔽机房进行测试和验收,确保其满足设计要求和使用需求。
综上所述,屏蔽机房的组成方式和使用材料都非常重要,只有选择合适的材料和施工方法才能保证屏蔽机房的屏蔽效果和使用安全性。
单门门禁读卡器是一种用于门禁系统的设备,主要负责读取进出人员的智能卡信息。它可根据预设规则判断持卡人是否具备开门权限,从而实现对门禁的控制。单门门禁读卡器通常直接外接 WG26 读卡器,以较低的成本实现单门双向刷卡进出开门的功能。
双门门禁读卡器则是适用于双门禁系统的读卡器,可以同时控制两道门的开关。它具备与单门门禁读卡器相似的功能,但能够同时处理两张卡片的信息,并根据设定的规则判断是否允许两人同时通过。双门门禁读卡器一般用于需同时控制多人或双向通行的场合,如大楼、办公楼等。
二者的区别主要在于控制门的数量和读卡功能:
控制门数量:单门门禁读卡器适用于单道门禁系统,而双门门禁读卡器适用于双道门禁系统。
读卡功能:双门门禁读卡器具备同时读取两张卡片的能力,而单门门禁读卡器仅能读取一张卡片。
作用方面,单门门禁读卡器和双门门禁读卡器均用于实现门禁控制,确保场所的安全管理。单门门禁读卡器适用于单一出入口的场所,如住宅、小型办公室等;双门门禁读卡器适用于需要同时控制多人通行的场所,如大楼、办公楼、酒店等。
此外,门禁读卡器还有多种技术类型,如 CPU 读卡器、普通读卡器等,不同类型的读卡器兼容的卡片和读取信息有所不同。在选择门禁读卡器时,需根据实际应用场景、卡片类型和需求来确定合适的设备。
手动屏蔽门和自动屏蔽门在操作方式、性能和应用场景上存在一定的区别:
操作方式:
手动屏蔽门:操作人员需要手动打开和关闭屏蔽门。通常设有手动解锁装置,可以在紧急情况下打开屏蔽门。例如,火灾发生时,操作人员可以手动解锁屏蔽门,以确保乘客的安全。
自动屏蔽门:采用智能化控制系统,可以根据预设的条件自动开启和关闭。例如,当地铁进站时,自动屏蔽门会根据列车的位置自动开启,乘客上下车完成后自动关闭。自动屏蔽门还可以通过远程控制进行操作。
性能:
手动屏蔽门:手动屏蔽门的操作依赖人工,因此在一定程度上受到操作人员技能和反应速度的影响。手动屏蔽门的屏蔽效果可能相对较低,但能够满足基本的安全需求。
自动屏蔽门:自动屏蔽门采用先进的控制系统,能够实现精确的屏蔽效果,保证列车运行的安全。自动屏蔽门的响应速度较快,能够在紧急情况下迅速采取行动。
应用场景:
手动屏蔽门:主要应用于较小型的场所,如实验室、机房等,需要对电磁辐射进行控制的地方。
自动屏蔽门:应用于较大型的场所,如地铁站、火车站等,以及对电磁辐射控制要求较高的场景。自动屏蔽门可以有效地隔离列车运行区域和站台区域,确保乘客安全和列车正常运行。
总之,手动屏蔽门和自动屏蔽门在操作方式、性能和应用场景上有一定的区别。根据实际需求和场景,选择合适的屏蔽门类型十分重要。
静电屏蔽、静磁屏蔽和高频电磁场屏蔽是三种常见的电磁屏蔽方法,它们的目的是防止外界的电磁场进入到某个需要保护的区域中。以下是关于这三种屏蔽方法的详细解释:
1.静电屏蔽:静电屏蔽的目的是防止外界的静电场进入需要保护的某个区域。静电屏蔽依据的原理是:在外界静电场的作用下,导体表面电荷将重新分布,直到导体内部总场强处处为零为止。静电屏蔽可以有效地减小静电场对电子设备、仪器和人体的影响。
2.静磁屏蔽:静磁屏蔽主要用于防止外界的恒定磁场或变化较慢的磁场进入需要保护的区域。静磁屏蔽的原理是利用屏蔽材料对外场的感应效应来抵消磁场的影响。常见的静磁屏蔽材料包括铁磁材料和镍磁材料等。
3.高频电磁场屏蔽:高频电磁场屏蔽主要用于防止高频电磁波(如无线电波、微波等)进入需要保护的区域。高频电磁场屏蔽的原理是利用屏蔽材料对高频电磁波的吸收和反射作用来减小电磁波的影响。高频电磁场屏蔽材料通常具有较高的导电性和磁导率,如金属纤维、金属网等。
总之,静电屏蔽、静磁屏蔽和高频电磁场屏蔽都是利用屏蔽材料对外场的感应效应或吸收、反射作用来抵消电磁场的影响,从而保护需要防护的区域不受电磁场干扰。这三种屏蔽方法在实际应用中可根据具体情况选择合适的方法和材料。
怎样做好机房电磁屏蔽:
1.设计阶段:在机房设计阶段,就要充分考虑电磁屏蔽的需求,合理规划机房的布局、设备和线路的布置。根据设备的电磁敏感程度和电磁干扰源的特性,确定屏蔽材料的类型、厚度以及屏蔽层的施工方式。
2.选择合适的屏蔽材料:根据机房的具体需求,选择合适的屏蔽材料。电磁屏蔽材料可以分为静电屏蔽体、磁屏蔽体和电磁屏蔽体。要考虑材料的导电性、磁导率、耐腐蚀性、耐磨损性等因素。
3.施工阶段:在施工过程中,确保屏蔽层的完整性,无孔洞或缝隙。做好接缝处的处理,保证屏蔽层的严密性。按照设计要求,施工屏蔽层,注意控制涂层的厚度均匀性。
4.接地处理:良好的接地是电磁屏蔽效果的关键。确保屏蔽层与地面紧密连接,以使电磁场得以有效引导至地面。接地系统应具有良好的抗干扰能力和稳定性。
5.通风与防护:施工过程中,确保作业环境通风良好,避免长期直接接触或吸入有害物质。施工人员应佩戴口罩、手套等防护用品,确保安全。
6.测试与验收:屏蔽工程完成后,对屏蔽效果进行测试,确保达到预期的屏蔽效果。测试方法包括电磁场强度测试、电磁兼容性测试等。
7.后期维护:机房投入使用后,定期检查屏蔽层的完整性,及时修复损坏的部分,以确保电磁屏蔽效果。同时,关注机房的通风、湿度和温度等环境因素,保证电子设备的安全运行。
通过以上步骤,可以有效做好机房的电磁屏蔽,保障电子设备的安全运行
选择屏蔽材料时要注意下面几个问题:
(1)材料的导电性和导磁性越好,屏蔽效能越高,但实际的金属材料不可能兼顾这两个方面,例如铜的导电性很好,但是导磁性很差;铁的导磁性很好,但是导电性较差。应该使用什么材料,根据具体屏蔽主要依赖反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性;
(2)频率较低的时候,吸收损耗很小,反射损耗是屏蔽效能的主要机理,要尽量提高反射损耗;
(3)反射损耗与辐射源的特性有关,对于电场辐射源,反射损耗很大,对于磁场辐射源,反射损耗很小。因此,对于磁场辐射源的屏蔽主要依靠材料的吸收损耗,应该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。
(4)反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关,对于电场辐射源,距离越近,则反射损耗越大,对于磁场辐射源,距离越近,则反射损耗越小,正确判断辐射源的性质,决定它应该靠近屏蔽体,还是原理屏蔽体,是结构设计的一个重要内容。
(5)频率较高时,吸收损耗是主要的屏蔽机理,这时与辐射源是电场辐射源还是磁场辐射源关系不大。
(6)电场波是最容易屏蔽的,平面波其次,磁场波是最难屏蔽的,尤其是(1KHz以下)低频磁场,很难屏蔽,对于低频磁场,要采用高导磁性材料,甚至采用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。
众所周知,电缆屏蔽层包括金属屏蔽和非金属屏蔽两种形式,采用哪一种屏蔽形式取决于电缆的种类。电力电缆为了屏蔽和均化电场,承载故障电流,通常采用金属屏蔽形式。而在国家标准GB/T12706《额定电压1kV(Um=1.2kV)到35kV(Um=40.5kV)挤包绝缘电力电缆及附件》中仅规定:“金属屏蔽应由一根或多根金属带、金属编织、金属丝的同心层或金属丝与金属带的组合结构组成。”“铜带屏蔽由一层重叠绕包的软铜带组成,也可采用双层软铜带间隙绕包。”“单芯电缆铜带标称厚度≥0.12mm,三芯电缆铜带标称厚度≥0.10mm。”“铜丝屏蔽由疏绕的软铜线组成,其表面应用反向绕包的铜丝或铜带扎紧,相邻铜丝的平均间隙应不大于4mm。”
金属带或金属丝屏蔽主要是在发生短路的情况下,在一定时间内承担一部分故障电流,避免绝缘在过高的电流影响下产生热击穿。前提是金属屏蔽必须有牢靠的接地措施,金属屏蔽的几何截面积应能满足相应的电气要求。
当电压等级低于35kV或导体标称截面积小于500mm2时,国家标准GB/T 12706没有明确规定金属带或金属丝屏蔽的使用范围,国内在没有特殊要求时均采用铜带屏蔽结构;DIN VED 0276和AS/NZS 1429.1要求电缆的金属屏蔽应采用铜丝屏蔽结构,并对铜丝屏蔽的几何截面积或电气要求进行规定。主要原因为国内电缆大多采用经小电阻接地方式,采用铜带屏蔽即可满足承载故障电流的要求;国外电缆大多采用直接接地方式,需采用铜丝屏蔽才可满足承载故障电流的要求。那么,怎样计算铜带和铜丝屏蔽结构可承载的故障电流呢?在计算过程中又应注意哪些问题呢?
前言:
随着电子行业的兴起,很多企业都采用屏蔽机房来屏蔽一些不必要的干扰,为了满足企业对屏蔽机房的不同屏蔽需求,屏蔽机房技术水平也逐渐在提高,每个企业采用不同的屏蔽材料都会有所不同,因此很多企业对于屏蔽机房的屏蔽效果是否与屏蔽材料有关产生了很多疑问,下面本文详解有哪些因素会影响屏蔽材料的效果!
(一)影响屏蔽材料效果的因素有:
(1)频率较高时,吸收损耗是主要的屏蔽机理,这时与辐射源是电场辐射源还是磁场辐射源关系不大。
(2)频率较低的时候,吸收损耗很小,反射损耗是屏蔽效能的主要机理,要尽量提高反射损耗。
(3)电场波是最容易屏蔽的,平面波其次,磁场波是最难屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低频磁场,很难屏蔽。对于低频磁场,要采用高导磁性材料屏蔽,几种情况影响屏蔽材料的效果甚至采用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。
(4)材料的导电性和导磁性越好,屏蔽效能越高,但实际的金属材料不可能兼顾这两个方面,例如铜的导电性很好,但是导磁性很差;铁的导磁性很好,但是导电性较差。应该使用什么材料,根据具体屏蔽主要依赖反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性;
(5)反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关,对于电场辐射源,距离越近,则反射损耗越大,对于磁场辐射源,距离越近,则反射损耗越小,正确判断辐射源的性质,决定它应该靠近屏蔽体,还是原理屏蔽体,是结构设计的一个重要内容。
(6)反射损耗与辐射源的特性有关,对于电场辐射源,反射损耗很大;对于磁场辐射源,反射损耗很小。因此,对于磁场辐射源的屏蔽主要依靠材料的吸收损耗,应该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。
以上哪些因素会影响屏蔽材料的效果,屏蔽材料在同距离、不同频率、不同场源的屏蔽效果也是不同的,而不同类型的金属材料也会带来不同的屏蔽效果。
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